经过分析,团队发现 p 值小于 0.05。这意味着蝶阀清洗前后的薄膜厚度有显著差异,也就是说蝶阀的清洗对薄膜厚度具有显著影响。原因找到了!
为了检验不同薄膜厚度的第二个可能原因,项目团队使用了 Minitab 的回归分析来确定熔炉内硅的温度和位置是显著因子。
研究结果
利用 Minitab 的能力分析和控制图,该团队确定了产生理想氮化硅薄膜厚度所需的条件:
- 每天应清洗蝶阀两次
- 确定了合理的熔炉温度。过程输出显示,三个相应熔炉位置的理想温度设置为炉口 500°C/932°F、炉中部 480°C/896°F 和炉底部 472°C/881°F